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月，第十一届中国国际半导体博览会暨高峰论坛如期在上海举行。
这是中国半导体产业一年一度的盛会。
国际展览馆里人头攒动，旻西科技的展厅格外醒目，科技感和未来感十足。
他们的展厅面积比别家的要大了一倍，参观的游客也格外多。
这次旻西展出的产品不少，除了今年8月发布的智能手机旻西Y4，还在展会上发布了公司第一款轻享版手机旻西Z1。
Z1的整体配置比Y系列降了一档，属于低配版。
这款手机最大的优势就是价格便宜，16G的Z1售价1399元，32G的是1899元，是专为收入水平较低的人群设计的智能手机。
另外还有今年4月份发布的平板电脑MXPad，两年更新一次的GPU和CPU，以及今年新出的LCD显示屏等。
总而言之，旻西把自家的明星产品都拿到博览会上来展览了。
晏旻和蔺征西花了一天时间在展览馆里转了一圈，认真看了各家新出的产品。
尽管他们一向都为自己公司的产品骄傲，但也不得不承认，展会上还是有不少令人眼前一亮值得学习的产品。
来参加展览会的除了中国内地半导体产业的公司和工厂，还有不少港台地区和海外的一些知名企业，比如英特尔、阿斯麦尔、尼康、苹果、三星、台基电等。
旻西打算跟阿斯麦尔沟通一下，看能不能买到28纳米的光刻机。
手机芯片更新迭代太快了，目前市面上最先进的手机芯片包括旻西Y4的芯片精度已经达到了28纳米。
而旻西芯片厂目前只有45纳米的光刻机，工艺制程也只突破到35纳米，所以他们已经无法为自己公司的最新款手机生产芯片了，不得不另外去找代工。
上海电子从2010年制造出45纳米的光刻机之后，就卡在了28纳米的光刻机制程上，三年了都还没任何突破的迹象。
光刻机越往后突破越难，目前突破这个精度的只有阿斯麦尔，连尼康都尚未突破，所以旻西短时间内想靠国产光刻机生产手机芯片是不可能了。
阿斯麦尔迄今已经推出了精度为20纳米的光刻机NXT:1970Ci，据说正在攻克10纳米的光刻机，这对旻西来说，都是巨大的压力。
不管是芯片制造，还是手机处理器，业内都在朝着更为高精的刻度出发，尤其是手机处理器，如果不在第一梯队，那就意味着失去了竞争力。
如果旻西能够买到28纳米的光刻机并且实现工艺突破，至少在未来三四年以内，他们的手机芯片还能自行生产。
因为28纳米的光刻机理论上是可以生产14纳米的芯片的，当然，前提是他们能够突破这个工艺，就目前来说，还没有人突破14纳米的生产工艺。
蔺征西已经跟阿斯麦尔驻中国的负责人约好了时间，商谈合作的可能性。
但他们也没抱太大希望，毕竟早几年美国和台基电就在提防他们，甚至不惜把他们告上法庭，有遏止旻西发展的机会他们从来不会放过。
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